主营产品：沉积PECVD系统、LSCVDTM系统、ALD系统、反应离子刻蚀系统、ICP刻蚀系统、Si深反应离子刻蚀系统、XeF 2刻蚀系统、Aqua等离子体净化系统、等离子清洗系统、紫外线臭氧净化系统