放电等离子烧结炉

GeniCore是升级版电场辅助烧结(Upgraded-FAST)技术与PPC脉冲等离子压制(Pulse Plasma Compaction)技术的发明者.广泛的应用于先进材料的研发和生产。

如烧结碳化物(WC-Co)、热电材料(PbTe)、Zr-Cu-Al-Nb (块状金属玻璃)、复合材料、透明陶瓷材料、生物材料、金刚石增加复合材料（EDC）等。

在较低温度和较短时间下开始烧结且不会产生不利的晶粒生长，使 U-FAST 技术成为生产纳米晶和亚微米材料的理想工艺，将电场辅助烧烧结技术提升到新高度。

GeniCore可灵活适应用户的需要:

1、从实验型到工业化规模生产的系列化设备

2、符合工业4.0的模块化设计

3、0- 2,500°C区间多点温度测量

4、“一键操作”与全过程工艺管理

5、U-FAST与PPC技术的现场使用工艺

6、烧结材料的特性与性能检测

7、专家团队:陶瓷、复合材料、金属、基复合材料MMC、超硬材料

U-FAST的理想应用:

1、大量创新材料的致密化烧结

2、不导电材料的烧结

3、纳米材料烧结(因为脉冲能< 1ms )

4、低温烧结材料

5、高导热材料

基本参数

最大电流[kA]     10

最大输出电压[V]  14

脉冲时段[ms]     0.8-500

温度测量[°C]    0-2500

真空度[mbar]    10-2~10-6

最大压制力[kN]   350

最大烧结工件尺寸[mm]   85

最大石墨模具尺寸[mm]   200

脉冲包间隔时间         0-999

脉冲包数量             1-500