立式线性连续磁控溅射适用于大尺寸基板产品的研发及生产，设备由进样室，溅镀室，出样室和基片传递机构组成，可实现连续镀膜，广泛应用于显示器件及光伏电池薄膜的开发及生产。矽基具备丰富的工业级大尺寸设备生产经验，目前在广东及北京地区均有线性连续磁控溅射设备销售实绩。

技术参数：

1. 本底真空10-7 Torr；

2. 基片尺寸：490x390 mm (玻璃基片)；

3. 基片直立传送，传送速度可调节；

4. 基片可加热至400℃；

5. 溅镀室数量可自由拓展；

6. 20英寸基片内镀膜均匀性优于 ±3%；