原子氢源HABS：III-V族衬底表面低温清洗

原子氧源OBS：氧化物薄膜的生长，表面清洗

微波等离子体源

- 功率：5-20 W/2.5 GHz

- 气体流量：1-10 sccm

- 适用气体：N2, H2, O2

- 应用：表面清洗，氧化物和氮化物材料的制备

氧原子源-OBS是一种热模式的气体裂解源，可以产生没有离子状态的H原子束流，可以有效避免离子轰击对衬底的影响。
 

特点：
 

氧原子裂解效率可达到：80%

原子氢密度高达10^15/s*cm2

没有高能粒子和离子存在

低功耗

集成水冷

氢原子源-HABS是一种热模式的气体裂解源，可以产生没有离子状态的H原子束流，可以有效避免离子轰击对衬底的影响。

产品特点：
 

氢原子裂解效率可达到：80%~98%

原子氢密度高达10^16/s*cm2

没有高能粒子和离子存在

低功耗：< 200 W

集成水冷

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直达具体产品分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 离子源‍、电子枪

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