HEX桌面式薄膜溅射沉积系统

Korvus Technology Ltd. 致力于开发制造模块化小型薄膜制备镀膜，特别适用于科研训练和实验室基本镀膜应用，例如，金属电极制备，新型薄膜开发等；

主要特点：

- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合

- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术

- 适用于科研训练和新型薄膜沉积

- 可与手套箱集成

- 占地面积小

主要配置和性能指标：

1.   快速拆换的六块独立板面形成的腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)

2.   系统节约实验室空间，占地约1m2，腔体尺寸：65 cm * 60 cm * 70 cm，重约50 kg

3.   快速 (20分钟内达到 5*10-6Torr)

4.   4英寸及以下尺寸样品台 (可选配 2-20 rpm旋转、500℃加热，水冷、直流偏压)

5.   四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源

6.   可集成膜厚测量功能，手套箱系统，以及各种定制功能

7.   自动操作软件控制（选配）

8.   可配备快速进样腔（选配）

9.   原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振

两种型号可选：

应用领域：

化学催化

电极薄膜制备

金属半导体薄膜制备

磁性薄膜制备

微纳米器件

光学器件

如有设备需求，欢迎随时联系我们。