光刻机又名掩膜对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。 根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩膜版细分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机是一种不需要使用传统掩膜版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩膜光刻机不需要掩膜版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。

科研版无掩膜光刻机 高灵活性、高精度、无掩膜的优势，非常适用于科学研究。 ACA系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻，极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。

TTT-07-UV Litho-ACA 无掩膜光刻机亮点： 特征尺寸0.8μm  6英寸光刻面积 高精度步进光刻 无掩膜光刻机  

TTT-07-UV Litho-ACA Pro 无掩膜光刻机亮点： 特征尺寸0.4μm 6英寸光刻面积 高精度步进光刻 无掩膜光刻机  

TTT-07-UV Litho-ACA Master 无掩膜光刻机亮点： 特征尺寸0.4μm 6英寸光刻面积 扫描光刻/步进光刻 可切换 无掩膜光刻机